Superfeinstleiterbahnen auf Folie

Technologie für flexible (u. starre) Substrate

Top-Print Electronic GmbH bietet die Möglichkeit, Prozesse auf Folien im Rolle-zu-Rolle Verfahren in Folienbandanlagen durchzuführen.
Die hierbei eingesetzten Verfahren basieren oftmals auf Prozessentwicklungen, die für spezielle Anwendungen erprobt, für andere jedoch noch angepasst werden müssen. Die hierbei entstehenden
Muster stellen deswegen jeweils nur Funktionsmuster dar.
Die Prozessführungen sind auf eine einseitige Prozessierung von Folien ausgerichtet; beidseitige Bearbeitungen sind im Aufbau. Die Folienprozesse arbeiten mit Bändern mit einer Breite von 215 mm; Strukturierungsprozesse finden in einem stop&go Verfahren mit einem Raster von 200 mm statt, so dass
sich eine aktive Prozessfläche ca. 185 * 185 mm² ergibt. Teilprozesse können auch auf starren Substraten
(Fläche <= 200 * 200 mm²) durchgeführt werden. Verschiedene Prozessverfahren stehen zur Verfügung
und können auch in einem Gesamtprozess verbunden werden.

Folienmaterialien:
  • Flex-Materialien wie PET, PEN, Polyimid und kundenspezifische Materialien
  • Folienbreite standardmäßig 215 mm; Foliendicke 50 µm (125 µm / kundenspezifisch)
  • Folienlängen (5-100) m, typischerweise ca. 20 m

Lithographie:
  • Aufbringen von Festresist
  • Belichtung mit Glasmaske oder Planfilm
  • Minimale Strukturgeometrie = 20 µm Line bzw. Space bei Verwendung von Glasmasken

Cu-Dünnfilm-Metallisierung:
  • Aufbringen von Dünnfilm-Kupfer mit Schichtdicken im Bereich <= 1.0 µm
  • Kein Klebematerial zwischen Substrat und Kupfer (Sputterprozess, Verwendung einer Cr Haftschicht)
  • Strukturierung mittels Lithographie und nassschemischer Ätzung

Semiadditive Cu-Metallisierung:
  • Galvanische Cu Verstärkung mittels Pattern-Plating (Lithographie) bis zu einer Cu Dicke von ca. 10 µm

Siebdruck:
  • Strukturiertes Aufbringen von dielektrischen, leitenden oder anderen Funktionsmaterialen mit
    Dicken von (10-20) µm
  • Mehrlagiges Aufbringen funktionaler Schichten ist möglich
  • Minimale Strukturgeometrie (materialabhängig) im Bereich von 200 µm 
  • Funktionsmaterialien für Elektrolumineszenz-Displayelemente vorhanden

Laserbearbeitung
  • Strukturierung evtl. auch selektiv von einzelnen Schichten (Via’s)
  • Konturschneiden von Devices im Herstellungsnutzen

Laminieren
  • Vollflächiges Aufbringen von z.B. Schutzfolien

Testen und Charakterisieren
  • Visuelle Kontrolle, optische Prüfung mit Messung Strukturgenauigkeiten
  • Testen (z.T. automatisiertes Testen) von elektrischen Parametern
  • Degradationstests infolge Feuchte- / Temperatureinwirkung
  • Messung von HF-Eigenschaften bis max. 100 GHz
  • Ggf. weitere Tests auf Anfrage

Schaltungsentwicklung / CAD-Services:
  • Jedes Projekt enthält CAD-Leistungen, die vom Dateneingang vom Kunden bis zum
    verarbeitungsgerechten Vorliegen der Maske(n)/Siebe reichen
  • Entwicklung auf Anfrage
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